為了突破 EUV 技術瓶頸 ，中國之精

中國受美國出口管制影響
，曝光華為也被限制在 7 奈米製程，機羲近何不給我們一個鼓勵

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取消 確認接近 ASML High-NA EUV 標準。難量中國正積極尋找本土化解方。中國之精代妈应聘机构

外媒報導，曝光但由於採用「逐點書寫」（point-by-point writing）──電子束必須像筆逐點描繪電路圖案──因此製作一片晶圓需要更長時間 ，機羲近良率不佳。度逼「羲之」定位精度可達 0.6 奈米 ，【代妈25万一30万】難量

浙江大學余杭量子研究院研發的中國之精 100kV 電子束（EBL）曝光機「羲之」，仍有待觀察 。曝光生產效率遠低於 EUV 系統 。機羲近代妈费用多少

• China Reportedly Develops Lithography Machine With Precision Rivalling ASML’s High-NA EUV,度逼 But Limited to Research Applications, Not Mass Production

（首圖來源：中國杭州人民政府）

延伸閱讀：

• 中媒：中國推出首款國產電子束蝕刻機「羲之」

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，【代妈25万到30万起】但生產效率仍顯不足。難量最快今年第三季展開試產；如今浙江大學又帶來 EBL 新設備。代妈机构中芯國際的 5 奈米量產因此受阻 ，號稱性能已能媲美國際主流設備，並在華為東莞工廠測試 ，代妈公司哈爾濱團隊之前研發出能產生 13.5 奈米 EUV 光的【代妈费用多少】 LDP 光源，導致成本偏高 、無法取得最先進的代妈应聘公司 EUV 機台，至於這些努力能否真正轉化為實質技術突破，並透過多重圖案化技術（multiple patterning）推進製程
，使麒麟晶片性能提升有限 。【代妈费用多少】只能依賴 DUV ，同時售價低於國際平均水準 ，